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實(shí)驗(yàn)室版LIBS分析系統(tǒng)（LIBS-E900）產(chǎn)品概述

簡介

激光誘導(dǎo)擊穿光譜實(shí)驗(yàn)是通過超短脈沖激光聚焦樣品表面形成等離子體，對等離子體發(fā)射光譜進(jìn)行分析來確定樣品的物質(zhì)成分及含量。超短脈沖激光聚焦后能量密度較高，可以將任何物態(tài)（固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)）的樣品激發(fā)形成等離子體，LIBS技術(shù)（原則上）可以分析任何物態(tài)的樣品，僅受到激光的功率以及探測光譜儀的靈敏度和波長范圍的限制。幾乎所有的元素被激發(fā)形成等離子體后都會(huì)發(fā)出特征譜線，因此，LIBS可以分析大多數(shù)的元素。

基本原理

基本原理為高能量激光聚焦到待測樣品表面,燒蝕樣品激發(fā)產(chǎn)生等離子體,通過采集裝置將等離子體輻射光傳輸?shù)焦庾V儀進(jìn)行分光，并通過光電探測器實(shí)現(xiàn)光電轉(zhuǎn)換后獲得光譜。最后，研究學(xué)者在計(jì)算機(jī)中根據(jù)等離子體發(fā)射光譜的波長和強(qiáng)度可分析得到待測樣品的元素組成及含量。

實(shí)驗(yàn)室版LIBS分析系統(tǒng)（LIBS-E900）產(chǎn)品介紹

產(chǎn)品參數(shù)：

• 探測波段范圍：200-900nm（其他波段可選），全國產(chǎn)iCMOS相機(jī)

• 光學(xué)分辨率：<0.1nm,更小值可選

• 最短門控：3ns，采用全國產(chǎn)iCMOS相機(jī)

• 延遲與門控精度：10ps

• 激光器能量：50、100、200、400mj等可選

• 波長重復(fù)精度：0.01nm

• 三維位移臺(tái)：行程 可選

• 支持定制真空腔光路，樣品氣體吹掃等功能

• 光譜顯示（峰值、半高寬）、譜線識(shí)別、文件自動(dòng)保存

• 自動(dòng)聚焦功能

• Mapping功能

• 樣品圖像實(shí)時(shí)顯示

產(chǎn)品特色：

• 完整、安全的外罩設(shè)計(jì)，便于運(yùn)輸和現(xiàn)場開箱即用。

• 同軸、異軸硬件框架設(shè)計(jì)，靈活適配科研實(shí)驗(yàn)需求。

• 依照不同的實(shí)驗(yàn)室測量精度要求可靈活搭配激光器、光譜儀以及快速門控相機(jī)

• 基于激光和視覺算法的自動(dòng)對焦系統(tǒng)，對樣品表面實(shí)時(shí)跟蹤實(shí)現(xiàn)LIBS的自動(dòng)跟焦和Mapping。

• 軟件界面突出Mapping和定量元素分析的特色，實(shí)時(shí)顯示元素Mapping分布圖。

軟件測試界面

簡潔的操作頁面，無需繁瑣的設(shè)計(jì)，一個(gè)按鍵可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)化測試。
強(qiáng)大的視覺功能，可實(shí)現(xiàn)Mapping圖，并自動(dòng)完成譜圖生成，并對樣品元素成分分布進(jìn)行偽色彩區(qū)分顯示。
接口豐富性，可接入不同數(shù)據(jù)庫，從而達(dá)到數(shù)據(jù)的高強(qiáng)度兼容。

應(yīng)用領(lǐng)域

• 礦產(chǎn)（煤質(zhì)分析）、冶金、爐渣等金屬物質(zhì)的成分探測

• 土壤、大氣、水體等環(huán)境中重金屬元素分析測量

• 地質(zhì)、考古等領(lǐng)域的年代分析

• 生物領(lǐng)域的細(xì)胞、皮膚，癌細(xì)胞等生物組織的成像應(yīng)用 

推薦搭配

• 顯微鏡模塊，用于微觀樣品的測量以及分析

• 拉曼模塊，用于多樣的化學(xué)、材料等領(lǐng)域分析

• 熒光模塊，不同熒光波段的光譜測試應(yīng)用

• Mapping模塊，用于整體樣品的測試與部分區(qū)域的差異化分析 

可升級功能

• Raman光譜與Mapping

• 門控Raman光譜

• 可通過購買端口接入某大廠數(shù)據(jù)庫進(jìn)行元素分析識(shí)別